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发布时间:2020-09-09 02:25:06
制取原料制造氮化硅砖的主要原料
氮化硅是一种构造结构陶瓷。它是一种硬化学物质,自身具备润湿性,而且抗磨损,为原子晶体;并且它还能抵御热冷冲击性,在空气中加温到1000℃之上,大幅度制冷再大幅度加温,也不会。更是因为氮化硅瓷器具备特点,大家经常用它来生产制造滚动轴承、机械设备密封圈等机械设备预制构件。生产制造氮化硅砖的关键原料是煅烧镁砂和铬铁矿。镁砂原料的纯净度要尽量高,铬铁矿成分的规定为:Cr2O330~45%,CaO不超1.0~1.5%。氮化硅融合碳化硅砖就是指用SiC和Si为原料,经渗氮烧制的防火产品。其特性是以Si3N4为融合剂。Si3N4以纤维状或纤维结晶体存有于SiC晶体中间,是一种关键的新式耐火保温材料。一般含碳化硅70%~75%,氮化硅18%~25%。具备优良耐腐蚀能力,1400℃抗折强度达50~55MPa,显孔隙率15%。常压烧结法(PLS)在提高烧结氮气氛压力方面,利用Si3N4分解温度升高(通常在N2=1atm气压下,从1800℃开始分解)的性质,在1700———1800℃温度范围内进行常压烧结后,再在1800———2000℃温度范围内进压烧结。线膨胀系数(4.5~5.0)×10-2℃-1。
氮化硅结合碳化硅砖的特点
氮化硅结合碳化硅砖是指用SiC和Si为原料,经氮化烧成的耐火制品。其特点是以Si3N4为结合剂。Si3N4以针状或纤维状结晶存在于SiC晶粒之间,是一种重要的新型耐火材料。一般含碳化硅70%~75%,氮化硅18%~25%。具有良好抗腐蚀能力,1400℃抗折强度达50~55MPa,显气孔率15%。热膨胀系数(4.5~5.0)×10-2℃-1。采用高温烧成法制备。主要用于高炉风口、铝电解槽内衬等。 氮化硅陶瓷材料具有热稳定性高。按制备工艺方法来划分可分为烧成砖、不烧砖、电熔砖(熔铸砖)、耐火隔热砖。由于氮化硅是键强高的共价化合物,并在空气中能形成氧化物保护膜,所以还具有良好的化学稳定性,1200℃以下不被氧化,1200~1600℃生成保护膜可防止进一步氧化,并且不被铝、铅、锡、银、黄铜、镍等很多种熔融金属或合金所浸润或腐蚀,但能被镁、镍铬合金、不锈钢等熔液所腐蚀。
气压烧结法(GPS)获得很大的进展
气压烧结法( GPS)
近几年来,人们对气压烧结进行了大量的研究,获得了很大的进展。气压烧结氮化硅在1 ~10MPa气压下,2000℃左右温度下进行。高的氮气压控制了氮化硅的高温分解。由于采用高温烧结,在添加较少烧结助剂情况下,也足以促进Si3N4晶粒生长,而获得密度gt; 99%的含有原位生长的长柱状晶粒高韧性陶瓷. 因此气压烧结无论在实验室还是在生产上都得到越来越大的重视. 气压烧结氮化硅陶瓷具有高韧性、高强度和好的耐磨性,可直接制取接近终形状的各种复杂形状制品,从而可大幅度降低生产成本和加工费用. 而且其生产工艺接近于硬质合金生产工艺,适用于大规模生产。氮化硅结合碳化硅制品是在氮气炉中烧制而成的,氮化硅制品的颜色通常都是灰白色的,砸开以后也是灰白色,但是可以明显看到碳化硅颗粒。
氮化硅结合碳化硅砖的结构特征
氮化硅结合碳化硅砖是以高纯SiC为骨料,添加硅粉等外加剂,依据原位生成理论,在氮化炉中烧制而成。该产品具有强度高、高温耐磨性好、热传导率高、热膨胀系数小、热震稳定性好等优点。 其结构特征是:SiC大颗粒为基质所包围,基质部分由粒状SiC和原位生成的纤维状Si3N4所组成,Si3N4纤维交织成三维空间网络,将SiC小颗粒包围起来,并与SiC大颗粒形成牢固的机械结合。根据要求配以各种结合剂,经高压成型,制品具有良好的热稳定性和较高的导热系数,且耐腐蚀性好,是工业窑炉理想的节能材料,该产品具有高温耐磨性好、膨胀系数小、热震稳定性好等特点。适用于气化炉气体出口处,特别要求热震稳定性良好。 本产品用于铝电解槽可减薄工作层,扩大电解槽的容积,具有高的导热性能、性能和抗冰晶石侵蚀性能,对高功率铝电解槽尤为适用。但是如果仔细看的情况下,废旧碳化硅和废旧氮化硅还是可以区分开的,一般氮化硅制品的颜色是灰白色,体积密度也比碳化硅制品的大。该产品已在焦作万方铝业、贵阳铝业、中孚铝业、包头铝业等多家企业的大型电解槽中使用,并出口力拓加拿大铝业、俄罗斯铝业、巴林铝业等,深得用户好评。
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